Elektronenmikroskopische Untersuchungen an aufgedampften Nickelfilmen : I. Einfluß der Temperung auf die äußere Struktur der Filme

Abstract

Ni-Filme von ca. 3 μ, 1,5 μ und 120 bis 560 A Schichtdicke werden im Ultrahochvakuum auf Duranglasplatten bei 293° oder 77°K aufgedampft und ihre Oberfläche im Abdruckverfahren im Elmiskop I abgebildet. Von den dünnen Filmen werden gleichzeitig Durchstrahlungsaufnahmen hergestellt. Die Abhängigkeit der Struktur und der Korngröße von Aufdampf- und Temperungstemperatur wird ermittelt. Die Kristallite werden an der Außenseite im allgemeinen durch Würfel- und Oktaederflächen begrenzt, die häufig parallel zur Filmoberfläche liegen. Von einer Temperungstemperatur von 100°C ab zeigen die Kristallite der bei 77°K aufgedampften Ni-Filme die Tendenz, durch Zusammenwachsen große Kristallite zu bilden. Je dünner der bei 77° oder 293°K aufgedampfte Film ist, um so kleiner sind die beobachteten Kristallite. Die Kontrastverhältnisse bei den Durchstrahlungsaufnahmen werden im wesentlichen nicht durch verschiedene Dicke der Kristallite, sondern durch verschiedenartige BRAGGsche Reflexion hervorgerufen