Einfluss der Präparationsbedingungen auf die strukturellen und dielektrischen Eigenschaften von Gd2O3-Schichten gewachsen mit Molekularstrahlepitaxie auf Si(001)

This item appears in the following Collection(s):

  • Dissertationen
    Dissertationsschriften der Leibniz Universität Hannover
 

Search the repository


Browse

My Account

Usage Statistics