Preparation and properties of high dose nitrogen implanted epitaxially grown gadolinium oxide on silicon

Originalpublikation

Joseph, Anit: Preparation and properties of high dose nitrogen implanted epitaxially grown gadolinium oxide on silicon. Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover, Diss., 2017, vii, 118 S.

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Publikationstyp: DoctoralThesis
Publikationsstatus: publishedVersion
Erstveröffentlichung: 2017
Schlagwörter (deutsch): Nitridierung, Gadoliniumoxid, Nitrid und Oxynitrid, Ionenimplantation
Schlagwörter (englisch): Nitridation, Gadolinium oxide (Gd2O3), nitride and oxynitide, ion implantation
Fachliche Zuordnung (DDC): 621,3 | Elektrotechnik, Elektronik

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