Measurement of the nonlinear refractive index in optical thin films

Originalpublikation

Steinecke, M.; Jupé, M.; Kiedrowski, K.; Ristau, D.: Measurement of the nonlinear refractive index in optical thin films. In: Proceedings of SPIE 10447 (2017), 104472A. DOI: https://doi.org/10.1117/12.2281127

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Zusammenfassung:
Based on the z-scan method, an interferometric set-up for measuring the optical Kerr-effect was engineered and optimized. Utilizing a Mach-Zehnder configuration, the wave front deformation caused by the Kerr induced selffocusing is monitored. Fitting this deformation to a theoretical approach basing on a beam propagation model, the nonlinear refractive index is obtained. The procedure can be applied to measure the nonlinear refractive index of both, the substrate material as well as the deposited dielectric layer on top of the substrate. The nonlinear refractive index of a layer specially deposited for this purpose as well as for several substrate materials was measured and the results presented. © 2017 SPIE.
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Publikationstyp: BookPart
Publikationsstatus: publishedVersion
Erstveröffentlichung: 2017
Schlagwörter (englisch): Kerr-effect, nonlinear optics, self-focusing, thin films, Deformation, Laser damage, Nonlinear optics, Optical materials, Refractive index, Thin films, Wavefronts, Dielectric layer, Nonlinear refractive index, Optical thin films, Propagation modeling, Self-focusing, Substrate material, Theoretical approach, Z-scan method, Optical Kerr effect
Fachliche Zuordnung (DDC): 620 | Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Kontrollierte Schlagwörter: Konferenzschrift

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