Stress Reduction in Sputtered Thin NiFe 81/19 Layers for Magnetic Field Sensors

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Jogschies, L.; Rittinger, J.; Klaas, D.; Wurz, M.C.: Stress Reduction in Sputtered Thin NiFe 81/19 Layers for Magnetic Field Sensors. In: Procedia Technology 26 (2016), S. 162-168. DOI: https://doi.org/10.1016/j.protcy.2016.08.022

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Kleine Vorschau
Zusammenfassung: 
Flexible magnetic field sensors using the anisotropic magnetoresistive effect that have been developed within the Collaborative Research Center 653 are to be transferred into industrial applications. Occurring challenges result from interactions between the flexible polyimide substrate and the functional layer namely a thin NiFe 81/19 film deposited by a DC sputter process. We have optimized the DC sputter process with regard to stress and roughness reduction.
Lizenzbestimmungen: CC BY-NC-ND 4.0 Unported
Publikationstyp: article
Publikationsstatus: publishedVersion
Erstveröffentlichung: 2016
Die Publikation erscheint in Sammlung(en):Fakultät für Maschinenbau

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