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Originalpublikation
Jogschies, L.; Rittinger, J.; Klaas, D.; Wurz, M.C.: Stress Reduction in Sputtered Thin NiFe 81/19 Layers for Magnetic Field Sensors. In: Procedia Technology 26 (2016), S. 162-168. DOI: https://doi.org/10.1016/j.protcy.2016.08.022
Version im Repositorium
Zum Zitieren der Version im Repositorium verwenden Sie bitte diesen DOI:
https://doi.org/10.15488/3249
| Zusammenfassung: | |
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Flexible magnetic field sensors using the anisotropic magnetoresistive effect that have been developed within the Collaborative Research Center 653 are to be transferred into industrial applications. Occurring challenges result from interactions between the flexible polyimide substrate and the functional layer namely a thin NiFe 81/19 film deposited by a DC sputter process. We have optimized the DC sputter process with regard to stress and roughness reduction.
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| Lizenzbestimmungen: | CC BY-NC-ND 4.0 Unported - https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/ |
| Publikationstyp: | Article |
| Publikationsstatus: | publishedVersion |
| Erstveröffentlichung: | 2016 |
| Schlagwörter (englisch): | Flexible Substrate, Collaborative Research Center 653, stress in metallic thin films |
| Fachliche Zuordnung (DDC): | 600 | Technik |
| Kontrollierte Schlagwörter: | Konferenzschrift |
Die Publikation erscheint in Sammlung(en):
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Fakultät für Maschinenbau
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