Epitaxie virtueller Germaniumsubstrate für III-V-Halbleiter

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dc.identifier.uri http://dx.doi.org/10.15488/8981
dc.identifier.uri https://www.repo.uni-hannover.de/handle/123456789/9034
dc.contributor.advisor Wietler, Tobias DE
dc.contributor.advisor Tegenkamp, Christoph DE
dc.contributor.author Grimm, Andreas ger
dc.date.accessioned 2019-12-15T15:11:42Z
dc.date.available 2019-12-15T15:11:42Z
dc.date.issued 2017
dc.identifier.citation Grimm, Andreas: Epitaxie virtueller Germaniumsubstrate für III-V-Halbleiter. Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover, Diss., 2016, ix, 174 S. ger
dc.description.abstract [no abstract] ger
dc.language.iso ger eng
dc.publisher Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
dc.rights Es gilt deutsches Urheberrecht. Das Dokument darf zum eigenen Gebrauch kostenfrei genutzt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden. ger
dc.subject Silicon eng
dc.subject gallium arsenide eng
dc.subject Germanium ger
dc.subject Silizium ger
dc.subject Galliumarsenid ger
dc.subject.ddc 621,3 | Elektrotechnik, Elektronik ger
dc.title Epitaxie virtueller Germaniumsubstrate für III-V-Halbleiter ger
dc.type DoctoralThesis ger
dc.type Text ger
dc.relation.urn urn:nbn:de:gbv:089-8773321264
dc.bibliographicCitation.firstPage ix, 174 S.
dcterms.extent ix, 174 S.
dc.description.version publishedVersion ger
tib.accessRights frei zug�nglich ger


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