Growth, structuring and interface manipulation of ultrathin oxide and silicate films on silicon single crystal surfaces

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dc.identifier.uri http://dx.doi.org/10.15488/8483
dc.identifier.uri https://www.repo.uni-hannover.de/handle/123456789/8536
dc.contributor.author Islam, Shariful ger
dc.date.accessioned 2019-12-07T09:03:54Z
dc.date.available 2019-12-07T09:03:54Z
dc.date.issued 2015
dc.identifier.citation Islam, Shariful: Growth, structuring and interface manipulation of ultrathin oxide and silicate films on silicon single crystal surfaces. Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover, Diss., 2015, VI, 109 S. ger
dc.description.abstract [no abstract] ger
dc.language.iso eng eng
dc.publisher Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
dc.rights Es gilt deutsches Urheberrecht. Das Dokument darf zum eigenen Gebrauch kostenfrei genutzt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden. ger
dc.subject Gate dielectric eng
dc.subject dielectric constant eng
dc.subject stoichiometry eng
dc.subject leakage current eng
dc.subject hygroscopic eng
dc.subject crystalline eng
dc.subject flat band voltage eng
dc.subject hysteresis eng
dc.subject barium silicates (Ba2SiO4) eng
dc.subject Gatedielektrikum ger
dc.subject Dielektrizitätskonstante ger
dc.subject Stöchiometrie ger
dc.subject Leckstrom ger
dc.subject hygroskopisch ger
dc.subject kristallin ger
dc.subject Flachbandspannung ger
dc.subject Hysterese ger
dc.subject Barium-Silikate ger
dc.subject.ddc 530 | Physik ger
dc.title Growth, structuring and interface manipulation of ultrathin oxide and silicate films on silicon single crystal surfaces eng
dc.type DoctoralThesis ger
dc.type Text ger
dc.relation.urn urn:nbn:de:gbv:089-8340657464
dc.bibliographicCitation.firstPage VI, 109 S.
dcterms.extent VI, 109 S.
dc.description.version publishedVersion ger
tib.accessRights frei zug�nglich ger


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Name: 834065746.pdf
Größe: 12.89Mb
Format: PDF
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