Analyse der Emissionscharakteristiken von Ionenquellen für hochwertige optische Beschichtungsprozesse

dc.identifier.uri	http://dx.doi.org/10.15488/7170
dc.identifier.uri	https://www.repo.uni-hannover.de/handle/123456789/7223
dc.contributor.author	Beermann, Nils	ger
dc.date.accessioned	2019-11-20T15:02:28Z
dc.date.available	2019-11-20T15:02:28Z
dc.date.issued	2009
dc.identifier.citation	Beermann, Nils: Analyse der Emissionscharakteristiken von Ionenquellen für hochwertige optische Beschichtungsprozesse. Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität, Diss., 2009, 152 S.	ger
dc.description.abstract	[no abstract]	ger
dc.language.iso	ger	eng
dc.publisher	Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
dc.rights	Es gilt deutsches Urheberrecht. Das Dokument darf zum eigenen Gebrauch kostenfrei genutzt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden.	ger
dc.subject	Dünnschichttechnologie	ger
dc.subject	optische Schichten	ger
dc.subject	Ionenquellen	ger
dc.subject	Ionenenergieverteilung	ger
dc.subject	Ionenstromdichteverteilung	ger
dc.subject	Faradaycup	ger
dc.subject	ionengestützte Beschichtung	ger
dc.subject	IAD	ger
dc.subject.ddc	530 \| Physik	ger
dc.title	Analyse der Emissionscharakteristiken von Ionenquellen für hochwertige optische Beschichtungsprozesse	ger
dc.type	DoctoralThesis	ger
dc.type	Text	ger
dc.relation.urn	urn:nbn:de:gbv:089-6017438491
dcterms.extent	152 S.
dc.description.version	publishedVersion	ger
tib.accessRights	frei zug�nglich	ger

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Format: PDF

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