Analyse der Emissionscharakteristiken von Ionenquellen für hochwertige optische Beschichtungsprozesse

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dc.identifier.uri http://dx.doi.org/10.15488/7170
dc.identifier.uri https://www.repo.uni-hannover.de/handle/123456789/7223
dc.contributor.author Beermann, Nils ger
dc.date.accessioned 2019-11-20T15:02:28Z
dc.date.available 2019-11-20T15:02:28Z
dc.date.issued 2009
dc.identifier.citation Beermann, Nils: Analyse der Emissionscharakteristiken von Ionenquellen für hochwertige optische Beschichtungsprozesse. Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität, Diss., 2009, 152 S. ger
dc.description.abstract [no abstract] ger
dc.language.iso ger eng
dc.publisher Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
dc.rights Es gilt deutsches Urheberrecht. Das Dokument darf zum eigenen Gebrauch kostenfrei genutzt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden. ger
dc.subject Dünnschichttechnologie ger
dc.subject optische Schichten ger
dc.subject Ionenquellen ger
dc.subject Ionenenergieverteilung ger
dc.subject Ionenstromdichteverteilung ger
dc.subject Faradaycup ger
dc.subject ionengestützte Beschichtung ger
dc.subject IAD ger
dc.subject.ddc 530 | Physik ger
dc.title Analyse der Emissionscharakteristiken von Ionenquellen für hochwertige optische Beschichtungsprozesse ger
dc.type doctoralThesis ger
dc.type Text ger
dc.relation.urn urn:nbn:de:gbv:089-6017438491
dc.description.version publishedVersion ger
tib.accessRights frei zug�nglich ger


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