Reaktive ionengestützte Prozesse für optische Hochleistungsschichten

dc.identifier.uri	http://dx.doi.org/10.15488/7030
dc.identifier.uri	https://www.repo.uni-hannover.de/handle/123456789/7083
dc.contributor.author	Ehlers, Henrik	ger
dc.date.accessioned	2019-11-19T08:28:56Z
dc.date.available	2019-11-19T08:28:56Z
dc.date.issued	2008
dc.identifier.citation	Ehlers, Henrik: Reaktive ionengestützte Prozesse für optische Hochleistungsschichten. Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität, Diss., 2008, 216 S.	ger
dc.description.abstract	[no abstract]	ger
dc.language.iso	ger	eng
dc.publisher	Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
dc.rights	Es gilt deutsches Urheberrecht. Das Dokument darf zum eigenen Gebrauch kostenfrei genutzt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden.	ger
dc.subject	Dünne Schichten	ger
dc.subject	optische Schichten	ger
dc.subject	ion assisted deposition	ger
dc.subject	IAD	ger
dc.subject	End-Hall-Ionenquelle	ger
dc.subject	Faraday-Cup	ger
dc.subject	Prozessentwicklung	ger
dc.subject	MIR	ger
dc.subject.ddc	620 \| Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau	ger
dc.title	Reaktive ionengestützte Prozesse für optische Hochleistungsschichten	ger
dc.type	DoctoralThesis	ger
dc.type	Text	ger
dc.relation.urn	urn:nbn:de:gbv:089-5880037350
dcterms.extent	216 S.
dc.description.version	publishedVersion	ger
tib.accessRights	frei zug�nglich	ger

Name: 588003735.pdf

Größe: 11.85Mb

Format: PDF

Die Publikation erscheint in Sammlung(en):

Fakultät für Mathematik und Physik
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