Beiträge zur Untersuchung der Reaktionen von SiCl4 und GeCl4 mit N2, NH3, PH3, H2O und CH4

dc.identifier.uri	http://dx.doi.org/10.15488/6255
dc.identifier.uri	https://www.repo.uni-hannover.de/handle/123456789/6307
dc.contributor.author	Schiefenhövel, Nils	ger
dc.date.accessioned	2019-11-13T11:47:34Z
dc.date.available	2019-11-13T11:47:34Z
dc.date.issued	2003
dc.identifier.citation	Schiefenhövel, Nils: Beiträge zur Untersuchung der Reaktionen von SiCl4 und GeCl4 mit N2, NH3, PH3, H2O und CH4. Hannover : Universität, Diss., 2003, 123 S.	ger
dc.description.abstract	[no abstract]	ger
dc.language.iso	ger	eng
dc.publisher	Hannover : Universität
dc.rights	Es gilt deutsches Urheberrecht. Das Dokument darf zum eigenen Gebrauch kostenfrei genutzt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden.	ger
dc.subject	Gas phase reactions	eng
dc.subject	plasma chemistry	eng
dc.subject	chlorosilazanes	eng
dc.subject.ddc	540 \| Chemie	ger
dc.title	Beiträge zur Untersuchung der Reaktionen von SiCl4 und GeCl4 mit N2, NH3, PH3, H2O und CH4	ger
dc.type	DoctoralThesis	ger
dc.type	Text	ger
dc.relation.urn	urn:nbn:de:gbv:089-3672109244
dcterms.extent	123 S.
dc.description.version	publishedVersion	ger
tib.accessRights	frei zug�nglich	ger

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Format: PDF

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