Rasterkraftmikroskopie-Untersuchungen an Isolator/Halbleiter-Systemen : die Wachstumsmorphologie von CaF2/Si(111)

dc.identifier.uri	http://dx.doi.org/10.15488/5727
dc.identifier.uri	https://www.repo.uni-hannover.de/handle/123456789/5779
dc.contributor.author	Pietsch, Holger	ger
dc.date.accessioned	2019-11-07T16:44:01Z
dc.date.available	2019-11-07T16:44:01Z
dc.date.issued	1997
dc.identifier.citation	Pietsch, Holger: Rasterkraftmikroskopie-Untersuchungen an Isolator/Halbleiter-Systemen : die Wachstumsmorphologie von CaF2/Si(111). Hannover : Universität, Diss., 1997, II, 111 S.	ger
dc.description.abstract	[no abstract]	ger
dc.language.iso	ger	eng
dc.publisher	Hannover : Universität
dc.rights	Es gilt deutsches Urheberrecht. Das Dokument darf zum eigenen Gebrauch kostenfrei genutzt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden.	ger
dc.subject	Insulator/semiconductor system	eng
dc.subject	growth	eng
dc.subject	UHV scanning force microscopy	eng
dc.subject	Isolator/Halbleiter System	ger
dc.subject	Wachstum	ger
dc.subject	UHV-Rasterkraftmikroskop	ger
dc.subject.ddc	530 \| Physik	ger
dc.title	Rasterkraftmikroskopie-Untersuchungen an Isolator/Halbleiter-Systemen : die Wachstumsmorphologie von CaF2/Si(111)	ger
dc.type	DoctoralThesis	ger
dc.type	Text	ger
dc.relation.urn	urn:nbn:de:gbv:089-2354205574
dcterms.extent	II, 111 S.
dc.description.version	publishedVersion	ger
tib.accessRights	frei zug�nglich	ger

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Format: PDF

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