Mader, C.; Bock, R.; Müller, J.; Schmidt, J.; Brendel, Rolf: Formation of locally aluminum-doped p-type silicon regions by in-line high-rate evaporation. In: Energy Procedia 8 (2011), S. 521-526. DOI: https://doi.org/10.1016/j.egypro.2011.06.176
Zusammenfassung: | |
Locally aluminum-doped p-type silicon regions are formed by in-line high-rate evaporation of aluminum. We deposit aluminum layers of 28 μm thickness at dynamic deposition rates of 20 μm×m/min on locally laser-ablated Al2O3 / SiNx passivation layers. Due to the high substrate temperature of up to 778°C during deposition an Al-doped p+ region is formed. Using the camera-based dynamic infrared lifetime mapping technique we determine a contact recombination velocity of 1000 ± 100 cm/s for local Al-p+ regions on p-type silicon wafers of 1.5 ωcm resistivity. The recombination velocity between the contacts is determined to 4.4 ± 0.5 cm/s after deposition. | |
Lizenzbestimmungen: | CC BY-NC-ND 3.0 Unported |
Publikationstyp: | Article |
Publikationsstatus: | publishedVersion |
Erstveröffentlichung: | 2011 |
Die Publikation erscheint in Sammlung(en): | Fakultät für Mathematik und Physik |
Pos. | Land | Downloads | ||
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Anzahl | Proz. | |||
1 | Germany | 163 | 66,53% | |
2 | United States | 32 | 13,06% | |
3 | China | 18 | 7,35% | |
4 | Vietnam | 5 | 2,04% | |
5 | Russian Federation | 3 | 1,22% | |
6 | Italy | 3 | 1,22% | |
7 | Spain | 3 | 1,22% | |
8 | Korea, Republic of | 2 | 0,82% | |
9 | United Kingdom | 2 | 0,82% | |
10 | France | 2 | 0,82% | |
andere | 12 | 4,90% |
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