Die Musterbildung im System Rh(111)/Ni/O2 + H2 wurde im Druckbereich zwischen 10-7 - 10-5 mbar mittels Photoelektronen-Emissions-Mikroskopie (PEEM), der Beugung von niederenergetischen Elektronen (LEED), Auger-Elektronen ...

Die Umstrukturierung ultradünner Nickelschichten wurde auf zwei unterschiedlichen Rhodium Einkristalloberflächen untersucht: Rh(111) und Rh(110). Auf beiden wurde die Oxidation von Nickel mit Sauerstoff und die anschließende ...