Atomic layer deposition of aluminum oxide on crystalline silicon : fundamental interface properties and application to solar cells

dc.identifier.uri	http://dx.doi.org/10.15488/8387
dc.identifier.uri	https://www.repo.uni-hannover.de/handle/123456789/8440
dc.contributor.author	Werner, Florian	ger
dc.date.accessioned	2019-12-05T11:56:39Z
dc.date.available	2019-12-05T11:56:39Z
dc.date.issued	2014
dc.identifier.citation	Werner, Florian: Atomic layer deposition of aluminum oxide on crystalline silicon : fundamental interface properties and application to solar cells. Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover, Diss., 2014, 199 S.	ger
dc.description.abstract	[no abstract]	ger
dc.language.iso	eng	eng
dc.publisher	Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
dc.rights	Es gilt deutsches Urheberrecht. Das Dokument darf zum eigenen Gebrauch kostenfrei genutzt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden.	ger
dc.subject	Aluminum oxide	eng
dc.subject	surface passivation	eng
dc.subject	inversion layer	eng
dc.subject	Aluminiumoxid	ger
dc.subject	Oberflächenpassivierung	ger
dc.subject	Inversionsschicht	ger
dc.subject.ddc	530 \| Physik	ger
dc.title	Atomic layer deposition of aluminum oxide on crystalline silicon : fundamental interface properties and application to solar cells	eng
dc.type	DoctoralThesis	ger
dc.type	Text	ger
dc.relation.urn	urn:nbn:de:101:1-2014110911729
dc.bibliographicCitation.firstPage	199 S.
dcterms.extent	199 S.
dc.description.version	publishedVersion	ger
tib.accessRights	frei zug�nglich	ger

Name: 799320552.pdf

Größe: 5.679Mb

Format: PDF

Die Publikation erscheint in Sammlung(en):

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