Atomic layer deposition of aluminum oxide on crystalline silicon : fundamental interface properties and application to solar cells

Originalpublikation

Werner, Florian: Atomic layer deposition of aluminum oxide on crystalline silicon : fundamental interface properties and application to solar cells. Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover, Diss., 2014, 199 S.

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Publikationstyp: DoctoralThesis
Publikationsstatus: publishedVersion
Erstveröffentlichung: 2014
Schlagwörter (deutsch): Aluminiumoxid, Oberflächenpassivierung, Inversionsschicht
Schlagwörter (englisch): Aluminum oxide, surface passivation, inversion layer
Fachliche Zuordnung (DDC): 530 | Physik

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