Oberflächenspannung auf Si(111) : Heteroepitaxie von Ge und CaF2, Adsorption von H und Sb

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dc.identifier.uri http://dx.doi.org/10.15488/9614
dc.identifier.uri https://www.repo.uni-hannover.de/handle/123456789/9668
dc.contributor.author Zahl, Percy ger
dc.date.accessioned 2020-03-13T15:00:24Z
dc.date.available 2020-03-13T15:00:24Z
dc.date.issued 2001
dc.identifier.citation Zahl, Percy: Oberflächenspannung auf Si(111) : Heteroepitaxie von Ge und CaF2, Adsorption von H und Sb. Hannover : Universität, Diss., 2000, 171 S. ger
dc.description.abstract [no abstract] ger
dc.language.iso ger eng
dc.publisher Hannover : Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover
dc.rights Es gilt deutsches Urheberrecht. Das Dokument darf zum eigenen Gebrauch kostenfrei genutzt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden. ger
dc.subject Surface-stress eng
dc.subject SSIOD eng
dc.subject SPA-LEED eng
dc.subject Si(111) eng
dc.subject hetero-epitaxy eng
dc.subject.ddc 530 | Physik ger
dc.title Oberflächenspannung auf Si(111) : Heteroepitaxie von Ge und CaF2, Adsorption von H und Sb ger
dc.type DoctoralThesis ger
dc.type Text ger
dc.relation.urn urn:nbn:de:gbv:089-3237815008
dcterms.extent 171 S.
dc.description.version publishedVersion ger
tib.accessRights frei zug�nglich ger


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