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Rogge, M.C.; Fühner, C.; Keyser, U.F.; Haug, R.J.; Bichler, M. et al.: Combined atomic force microscope and electron-beam lithography used for the fabrication of variable-coupling quantum dots. In: Applied Physics Letters 83 (2003), Nr. 6, S. 1163-1165. DOI: https://doi.org/10.1063/1.1599972
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| Abstract: | |
A study was performed on combined electron-beam lithography and atomic force microscopy used for the fabrication of variable-coupling quantum dots. The conventional electron-beam lithography was combined with direct nanofabrication by local anodic oxidation to produce a parallel double quantum dot based on a GaAs/AlGaAs heterostructure. It was found that the combination of both nanolithography methods allowed fabrication of robust in-plane gates. | |
| License of this version: | Es gilt deutsches Urheberrecht. Das Dokument darf zum eigenen Gebrauch kostenfrei genutzt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden. |
| Document Type: | Article |
| Publishing status: | publishedVersion |
| Issue Date: | 2003 |
| Appears in Collections: | Fakultät für Mathematik und Physik |
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| pos. | country | downloads | ||
|---|---|---|---|---|
| total | perc. | |||
| 1 |  |
Germany | 27 | 33.33% |
| 2 |  |
United States | 23 | 28.40% |
| 3 |  |
China | 10 | 12.35% |
| 4 |  |
Ireland | 2 | 2.47% |
| 5 |  |
United Kingdom | 2 | 2.47% |
| 6 |  |
France | 2 | 2.47% |
| 7 |  |
Finland | 1 | 1.23% |
| 8 |  |
Czech Republic | 1 | 1.23% |
| 9 |  |
Colombia | 1 | 1.23% |
| 10 |  |
Switzerland | 1 | 1.23% |
| other countries | 11 | 13.58% | ||
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