Barrier-free subsurface incorporation of 3d metal atoms into Bi(111) films

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Klein, C.; Vollmers, N.J.; Gerstmann, U.; Zahl, P.; Lükermann, D. et al.: Barrier-free subsurface incorporation of 3d metal atoms into Bi(111) films. In: Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics 91 (2015), Nr. 19, No. 195441. DOI: https://doi.org/10.1103/PhysRevB.91.195441

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Zusammenfassung: 
By combining scanning tunneling microscopy with density functional theory it is shown that the Bi(111) surface provides a well-defined incorporation site in the first bilayer that traps highly coordinating atoms such as transition metals (TMs) or noble metals. All deposited atoms assume exactly the same specific sevenfold coordinated subsurface interstitial site while the surface topography remains nearly unchanged. Notably, 3d TMs show a barrier-free incorporation. The observed surface modification by barrier-free subsorption helps to suppress aggregation in clusters. It allows a tuning of the electronic properties not only for the pure Bi(111) surface, but may also be observed for topological insulators formed by substrate-stabilized Bi bilayers. © 2015 American Physical Society.
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Publikationstyp: Article
Publikationsstatus: publishedVersion
Erstveröffentlichung: 2015
Die Publikation erscheint in Sammlung(en):Fakultät für Mathematik und Physik

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